Wiele się mówi o „Ultra-HDI”, szczególnie w kontekście wszystkich przewidywanych prac w ramach Ustawy CHIPS. Z mojego doświadczenia wynika, że Ultra-HDI oznacza różne rzeczy dla różnych osób, w zależności od ich możliwości i ekspertyzy. IPC utworzyło grupę roboczą do zajęcia się ultra-HDI i ich stanowisko jest takie, że aby projekt był uznany za ultra-HDI, musi zawierać jeden lub więcej z następujących parametrów:
Szerokość linii poniżej 50 mikronów
To jest dość hojna definicja i istnieje dziś kilku wyspecjalizowanych producentów, którzy mogą wytwarzać płytki drukowane spełniające to kryterium, używając tradycyjnych procesów trawienia subtrakcyjnego. Chociaż użycie ścieżki i odstępu 50 mikronów to poprawa w stosunku do tradycyjnych minimalnych 75 mikronów, do których historycznie byliśmy ograniczeni, myślę, że staje się to znacznie bardziej interesujące, gdy teraz widzimy producentów, którzy mają możliwość tworzenia warstw z linią i przestrzenią 15 mikronów. Kilku producentów obecnie buduje z wykorzystaniem półdodatkowych technik fabrykacji PCB (SAP), w tym producentów specjalizujących się w pracy o wysokim miksie i niskim wolumenie. Tradycyjnie procesy SAP były stosowane głównie w obiektach o wysokiej objętości.
Nawet jeśli nie przesuniemy granicy aż do 15 mikronów, użycie ścieżki i odstępu 25 mikronów do wyjścia z ciasnych obszarów BGA ma tak wiele korzyści:
W poprzednim poście na blogu omówiliśmy kilka często zadawanych pytań, jak projektanci płytek drukowanych radzą sobie z krzywą uczenia się podczas realizacji swoich pierwszych projektów wykorzystujących te nowe możliwości. Poniżej znajduje się link, jeśli chcesz się z nimi zapoznać.
W tym blogu kontynuujemy z kilkoma kolejnymi często zadawanymi pytaniami, skupiając się na projektowaniu pod kątem możliwości produkcyjnych. W tej dyskusji przyjrzymy się aplikacjom, w których projektanci płytek drukowanych stosują hybrydowe podejście do projektowania. Pewne warstwy są trasowane z wykorzystaniem ścieżek i odstępów o grubości 25 mikronów, aby zmniejszyć liczbę warstw potrzebnych do wyjścia z ciasnych obszarów BGA oraz warstwy zasilania i masy mają znacznie większe cechy. Te warstwy zasilania i masy są zwykle produkowane przy użyciu procesów subtrakcyjnych. Gdy stosowane jest to podejście, często zadawanym pytaniem jest:
Krótką odpowiedzią jest tak, z następującymi wytycznymi: Struktury via in pad/ plated over powinny być stosowane na warstwach nie o ultra-wysokiej gęstości. Preferowane jest, aby te struktury, jeśli są potrzebne, były używane w zewnętrznej strukturze zasilania/masy z szerokością linii 75 mikronów (3 mil) i odstępem 125 mikronów (5 mil). Jest to spowodowane wielokrotnymi procesami platerowania wymaganymi do wyprodukowania technologii VIPPO.
Jeśli konieczne jest użycie via-in-pad wraz z ultra-cienkimi liniami na zewnątrz, należy użyć mikroprzewiertu wypełnionego miedzią, aby poprowadzić ścieżkę do kolejnej warstwy. Średnica tego przewiertu powinna wynosić od 3 do 4 milów, a odstęp dielektryczny nie powinien być większy niż średnica przewiertu, najlepiej mniejszy.
Struktura zakopana może być użyta, jeśli górna i dolna warstwa podzespołu nie używają technologii ultra-cienkich linii. Ten przewiert może być wypełniony i pokryty galwanicznie.
Chociaż odległość między miedzią a miedzią może zwiększać koszty w procesie trawienia subtrakcyjnego, w środowisku pół-dodatkowym nie jest to problem.
W warstwach wewnętrznych odstęp może wynosić 25 mikronów lub mniej, w zależności od technologii używanej przez producenta PCB.
W warstwach zewnętrznych musi być wystarczająco dużo miejsca, aby maska lutownicza mogła w pełni pokryć ścieżkę i nie odsłaniać miedzi. Zalecane są pady określone przez maskę nad pady określone przez metal. Zapobiegnie to problemom z rejestracją maski lutowniczej, odsłaniając sąsiedni metal, gdy zewnętrzny odstęp jest mniejszy niż 75 mikronów między padem a sąsiednim metalem.
Te nowe techniki produkcji zmieniają sposób, w jaki projektanci PCB patrzą na rozwiązywanie skomplikowanych problemów projektowych. Jeśli jesteś zainteresowany dowiedzeniem się więcej o procesach SAP, zapoznaj się z kilkoma naszymi poprzednimi blogami. Przebrnęliśmy przez podstawy przetwarzania SAP, ostatnio przyjrzeliśmy się niektórym z najważniejszych pytań związanych ze stosowaniem płytek drukowanych, oraz zbadaliśmy przestrzeń projektową wokół możliwości wykorzystania tych ultrawysokich gęstości ścieżek obwodów w regionach ucieczki BGA oraz szerszych ścieżek w polu trasowania. Korzyścią jest redukcja warstw obwodów, a obawą jest utrzymanie impedancji 50 omów. Eric Bogatin niedawno opublikował białą księgę analizującą właśnie te korzyści i obawy.
Prosimy o kontakt z pytaniami dotyczącymi technologii Ultra-HDI!